"반도체 공정 과정 물방울 나노 크기 측정 성공"

국내 연구팀이 반도체 제조 과정에서 액체가 표면에 얼마나 고르게 퍼지는지를 나노 크기로 관찰하는 기술을 개발했습니다.

카이스트 홍승범 교수 공동 연구팀은 시료 표면의 원자를 측정하는 원자간력 현미경을 이용해 나노 크기의 물방울을 실시간으로 관찰하고 물방울의 모양을 기반으로 접촉각을 계산하는 기술을 개발했습니다.

연구팀은 수증기가 얼지 않을 정도의 온도로 표면을 냉각해 나노 물방울이 표면에 맺히도록 유도하고, 현미경으로 물방울의 원래 형태를 촬영하는 데 성공했다고 밝혔습니다.

또 '리튬탄탈레이트'에 적용한 결과, 물질의 전기적 방향에 따라 나노 물방울의 접촉각이 달라지는 차이도 처음으로 확인했다고 덧붙였습니다.



YTN 사이언스 김은별 (kimeb0124@ytn.co.kr)